Kolloidal silika, yüzey bazlı silanol gruplarının dimetil silil gruplarına bağlanması ve karakter olarak hidrofobik hale getirilmesiyle standart sentetik amorf silikadan (örneğin Kolloidal silikon dioksit) ayrılan, yüzeyi değiştirilmiş sentetik amorf bir silikadır.
Kolloidal silika, su ile ıslanamayan hafif, ince, beyaz veya neredeyse beyaz amorf bir toz halinde oluşur.
Kolloidal silika, sıvı bir ortamda ince, katı silikon dioksit (SiO2) parçacıklarının bir süspansiyonunu ifade eder.
CAS Numarası: 112945-52-5
Moleküler Formül: O2Si
Molekül Ağırlığı: 60.08
EINECS Numarası: 231-545-4
SİLİKON DİOKSİT, Silika, Dioksosilan, Kuvars, 7631-86-9, Silika jel, Kristobalit, Silisik anhidrit, Tridimit, 14808-60-7, Kum, 112945-52-5, 61790-53-2, 112926-00-8, KIESELGUHR, Diyatomlu silika, Selanik, Aerosil, Silikon(IV) oksit , Zorbax sil, 60676-86-0, Silika, amorf, 14464-46-1, Dikalit, Ludox, Nyacol, Amorf silika, KUVARS (SIO2), Kristobalit (SiO2), Cab-O-sil, Sillikolloid, Ekstrüzyon, Santocel, Sipernat, Superfloss, Acticel, Carplex, Neosil, Neosil, Porasil, Silikil, Siloksit, Zipax, Aerosil-degussa, Silikon oksit, Aerosil 380, Sentetik amorf silika, Kuvars kumu, Gül kuvars, Silika parçacıkları, 91053-39-3, Cab-o-sil M-5, Silika, füme, Snowtex O, Silika, kolloidal, Tokusil TPLM, Dri-Die, Silika, VITREOUS, Manosil vn 3, Kolloidal silikon dioksit, Ultrasil VH 3, Ultrasil VN 3, Aerosil bs-50, Carplex 30, Carplex 80, Snowtex 30, Zeofree 80, Aerosil K 7, Cabosil N 5, Syton 2X, Amorf silika jel, Pozitif sol 232, Siliziumdioksit, Aerojel 200, Aerosil 300, Kalsedon, Diyatomit, Ludox hs 40, Silanox 101, Silika (SiO2), Vitasil 220, Akik, Pozitif sol 130M, Silika vitreus, Silikon dioksit (amorf), Aerosil A 300, Aerosil E 300, Aerosil M-300, kolloidal silika, Erimiş silika, Kuvars cam, Silika bulamaç, Silikon dioksit, füme, Silikon dioksit, 68855-54-9, Nalfloc N 1050, Quso 51, Silika, amorf kaynaşmış, Nalco 1050, Quso G 30, Hidrofobik silika 2482, Kieselsaeureanhydrid, Min-U-Sil, 15468-32-3, SiO2, CCRIS 3699, Silika Jel, 40-63 Mikron Partiküller, Silika aerojel, (SiO2)n, UNII-ETJ7Z6XBU4, ETJ7Z6XBU4, Silikon Dioksit, Amorf, Silika 2482, hidrofobik, Silikon dioksit, kimyasal olarak hazırlanmış, EINECS 231-545-4, CAB-O-SIL N-70TS, EPA Pestisit Kimyasal Kodu 072605, CI 7811, Aerosil 200, 99439-28-8, CHEBI:30563, AI3-25549, Kristal silika, N1030, U 333, Silika jel 60, 230-400 ağ, Cam, Silikon dioksit, kolloidal, 15723-40-7, ENT 25,550, [SiO2], Silika, kristal - kaynaşmış, Silikajel, Silika jel, pptd., kristal içermeyen, 13778-37-5, 13778-38-6, 17679-64-0, Christensenit, Kristobalit, Silika jel kurutucu, gösterge, Elit, INS-551, Kalsine diatomit, MFCD00011232, MFCD00217788, Silika, amorf, füme, krist.-içermeyen, Silika, mezoyapılı, Ametist, Aquafil, Kataloid, Crysvarl, Çakmaktaşı, Nalcoag, Novakülit, Silikill, Vulkasil, Çörtler, Snowit, İmsil, Metakristobalit, Kuvars silika, alfa-Kuvars, Fosil un, Füme silika, Kuvars tozu, Kaya kristali, Silika tozu, Beyaz karbon, SİMETIKON BİLEŞENİ SİLİKON DİOKSİT, Kromosorb P, Kaplan gözü, E-551, Vulkasil S, Celite superfloss, Kristobalit tozu, Corasil II, Gümüş bağ B, Cab-O-sperse, alfa-Kristobalit, alfa-Kristobalit, Altın bağı R, (SiO2), Cabosil st-1, Silika Standart: H2O içinde SiO2 @ 100 mikrog/mL, Sil-Co-Sil, Silika Standardı: H2O'da SiO2 @ 1000 mikrog/mL, Siderit (SiO2), Tridimit 118, Cab-O-grip II, Tridimit [Fransızca], HI-Sil, Amorf silika tozu, Silikon Oksit İçi Boş Nanosferler, Nyacol 830, Sibelite M 3000, Sibelite M 4000, Sibelite M 6000, Quazo puro [İtalyanca], SILIKA, AMORF (IARC), SILIKA, AMORF [IARC], Caswell No. 734A, Sicron F 300, Sikron F 100, Spektrozil, Accusand, Koezit, Fuselex, Nalcast, Nyacol 1430, Optocil, Kuvarsin, Kuarzkum, Rancosil, Suprasil, Tridimit, Silteks, Vitreus kuvars, Camsı silika, Tridimit tozu, W 12 (Dolgu), beta-Kuvars, Erimiş kuvars, MIN-U-sil alfa kuvars, Kuvars-beta, Amorf kuvars, Dri-Die insektisit 67, Quazo puro, Silika, amorf, füme, Vitrifiye silika, Pirojenik kolloidal silika, Silika, kaynaşmış, Suprasil W, Vitreosil IR, Borsil P, Dioksit, Silikon, Silan, diokso-, Kristalize silikon dioksit, Optocil (kuvars), CP-SilicaPLOT, Kum, Deniz, Silikon oksit, di- (kum), Quarzsand [Almanca], S-Col, Admafine SO 25H, Admafine SO 25R, Admafine SO 32H, Admafine SO-C 2, Admafine SO-C 3, Kristobalit asbest, Keatit (SiO2), Sg-67, Tridimit (SiO2), Füme silika, kristalsiz, Stishovite (SiO2), ED-C (silika), Fuselex ZA 30, As 1 (silika), CCRIS 2475, DQ12, Akik (SiO2), Celite 545, Füme sentetik amorf silika, Silika, kristal - tridimit, FB 5 (silika), Fuselex RD 120, Corning 7940, Mikrokristalin kuvars, Sentetik amorf silika, füme, Denka F 90, Denka FB 30, Denka FB 44, Denka FB 74, Dri-Die 67, Silika jel küresel, 40-75 mum parçacık boyutu, WGL 300, Kriptokristalin kuvars, FB 20 (silika), Elsil 100, F 44 (dolgu maddesi), D & D, SF 35, Elsil BF 100, F 125 (silika), F 160 (silika), Fuselex RD 40-60, Silika, amorf, kaynaşmış, Silika; Silika kolloidal susuz; Silisyum dioksit, EINECS 238-455-4, EINECS 238-878-4, EINECS 239-487-1, 43-63C, HK 400, TGL 16319, Silika, kristal kuvars, Silisyum dioksit (camsı), Silika, amorf, füme, krist.-free, Silika, kristal, kuvars, Silika, kristal: kuvars, tripolit, GP 7I, Çökeltilmiş amorf silika, Krisopraz, Ronasfer, Silika, kristal tridimit, Speriglass, Carneol, Sitrin, Kieselgel, NaturasilScars, Kumtaşı, Silika, kristal - kuvars, Silika, Spherica, AF-SO 25R, Kuvars [Silika, kristal], Siilca, Zorbax, kuvars-cam, silis kumu, Silicom dioksit, Silika unu (toz kristal silika), Silika marina, Silika, kristal: tridimit, silika jel, Erimiş silika, pirojenik silika, Silika, füme, GP 11I, RD 8, FT-0700917, NS00096378, S0822, Silika jel, 1-4 mm nem göstergeli, Silika, amorf, füme (kristal içermez), Silikon dioksit Nanopowder KH550 işleme, Silikon dioksit Nanopowder KH570 işleme, Silikon (IV) oksit, %99,0 (metal bazında), Celite(R) 110, filtre yardımcısı, kalsine edilmiş, Celite(R) 512 orta, filtre yardımcısı, kalsine edilmiş, Kromozorb(R) G/AW-DMCS, 100-120 ağ, Kromozorb(R) W/AW-DMCS, 120-140 ağ, K-411 Cam mikro kürecikler, NIST SRM 2066, Silika jel, teknik sınıf 40, 6-12 ağ, C18 Silika Jel, Uçlu, 60A, 40-63um, D05839, D06521, D06522, D78143, Dr. Zenni GGOGGOMA Diş MacunuAhududu aroması, Kum, beyaz kuvars, 50-70 mesh parçacık boyutu, Silika, mezostrüktürel, MSU-F (hücresel köpük), SIMETIKONUN SILIKON DIOKSIT BILEŞENI, Silikon Dioksit, Amorf Jel, Suda% 15, Silikon Dioksit, Amorf Jel, Suda% 40, Celite(R) 209, filtre yardımcısı, doğal, işlenmemiş, Celite(R) Analitik Filtre Yardımı II (CAFA II), Cam kumu, NIST(R) SRM(R) 165a, düşük demir, Silika jel küresel, 75-200 mum partikül boyutu, Silika jel, Davisil (R) sınıf 922, -200 ağ, Silika jel, büyük gözenek, P.Vol. yaklaşık 1.65cc/g, Silikon Oksit (Silika, Silikon dioksit, kuvars), Silikon oksit tozu, %99,5 Nano, 15-20 nm, Q116269, Kum elek analizi için kum, NIST(R) RM 8010, Silika jel, GF254, ince tabaka kromatografisi için, Silika jel, HF254, ince tabaka kromatografisi için, Silika jel, Tip III, Belirten, kurutma için, Silika, mezoyapılı, MCM-41 tipi (altıgen), Silikon dioksit, purum pa, asitle saflaştırılmış, kum, Standart Süper Cel(R) ince, filtre yardımcısı, kalsine edilmiş, Celite(R) 500 ince, filtre yardımcısı, kurutulmuş, işlenmemiş, Sulu Çözeltide Kollodiyal Silika (nanopartiküller), Cam kumu, NIST(R) SRM(R) 1413, yüksek alümina, J-002874, Kum, beyaz kuvars, >=%99,995 eser metal bazında, Silika jel, büyük gözenek, PV yaklaşık 1cc/g, 8 gözlü, Silika jel, teknik sınıf, 1-3 mm partikül boyutu, Silika jel, teknik sınıf, 3-6 mm partikül boyutu, Silika jel, nem göstergeli (mavi), kaba, Celpure(R) P65, USP/NF test spesifikasyonlarını karşılar, Silikon dioksit bazlı mikro partiküller, boyut: 2 mum, Silikon dioksit bazlı mikro partiküller, boyutu: 3 mum, Silikon dioksit bazlı mikro parçacıklar, boyut: 4 anne, Silikon dioksit bazlı mikro parçacıklar, boyut: 5 mum, Silika jel 60, 0.060-0.2mm (70-230 ağ), Silika jel kurutucu, gösteren, %<1 Kobalt klorür, Silika jel, -60-120 ağ, kolon kromatografisi için, Silikon (IV) oksit, H2O'da% 15, kolloidal dispersiyon, Silikon (IV) oksit, H2O'da% 30, kolloidal dispersiyon, Silikon(IV) oksit, H2O'da %50, kolloidal dispersiyon, Celpure(R) P100, USP/NF test spesifikasyonlarını karşılar, Celpure(R) P1000, USP/NF test spesifikasyonlarını karşılar, Celpure(R) P300, USP/NF test spesifikasyonlarını karşılar, Silikon dioksit bazlı mikro partiküller, boyut: 0,5 mum, Silikon dioksit bazlı mikro partiküller, boyut: 1.0 mum, Silika Dispersiyon (SiO2, Sulu Dispersiyon, Amorf), Silika jel 60, 0.032-0.063mm (230-450 ağ), Silika jel 60, 0.036-0.071mm (215-400 ağ), Silika jel 60, 0.040-0.063mm (230-400 ağ), Silika jel kurutucu, gösterge, -6+16 gözenekli granüller, Silika jel, nem göstergeli (mavi), -6-20 ağ, Silika, mezoyapılı, MSU-H (geniş gözenekli 2D altıgen), Silika, mezoyapılı, SBA-15,% 99 eser metal bazlı, Silikon Dioksit (Silika) Nanodispersiyon Tip A (20nm), Silikon Dioksit (Silika) Nanodispersiyon Tip B (20nm), Silikon dioksit, -325 ağ, %99,5 eser metal bazlı, Silikon dioksit, yıkanmış ve kalsine edilmiş, analitik reaktif, Silikon(IV) oksit, amorf füme, SA 85-115m2/g, Sentetik - erimiş silika: Ticari İsimler: Suprasil; TAFQ, Zeolit - Mezogözenekli Silika Nanotoz (SBA-15 Tipi), Kromozorb(R) W, AW-DMCS, 100-120 gözenekli parçacık boyutu, Silikon dioksit bazlı mikro parçacıklar, boyut: 0.15 mum, Silika jel, yüksek saflık derecesi (15111), gözenek boyutu 60 ??, Silika Bulamaç (SiO2, Saflık:% 99, Çap: 15-20nm), Silika, mezogözenekli, 1 mum partikül boyutu, gözenek boyutu ~ 2 nm, Silika, mezogözenekli, 1 mum partikül boyutu, gözenek boyutu ~ 4 nm, Silika, mezo gözenekli, 2 anne partikül boyutu, gözenek boyutu ~ 2 nm, Silika, mezo gözenekli, 2 anne partikül boyutu, gözenek boyutu ~ 4 nm, Silika, mezoporöz, 3 anne partikül boyutu, gözenek boyutu ~ 2 nm, Silika, mezogözenekli, 3 anne partikül boyutu, gözenek boyutu ~ 4 nm, Silika, füme, hidrofilik, özgül yüzey alanı 200 m2 / g, Silika, füme, hidrofilik, özgül yüzey alanı 400 m2 / g, silikon dioksit; sentetik amorf silikon dioksit (nano), Silikon(IV) oksit, amorf füme, SA 350-420m2/g, Amorf silika: Camsı silika, kuvars cam, erimiş silika, LUDOX(R) kolloidal silika, ağırlıkça %30 H2O'da süspansiyon, LUDOX(R) CL kolloidal silika, ağırlıkça %30 H2O'da süspansiyon, LUDOX(R) CL-X kolloidal silika, ağırlıkça %45 H2O'da süspansiyon, LUDOX(R) LS kolloidal silika, 30.
Kolloidal silikalar, 2.1 ila 2.3 g/cm3 aralığında partikül yoğunlukları sergiler.
Kolloidal silikaların çoğu, çapı yaklaşık 30 ila 100 nm arasında değişen partikül boyutlarına sahip monodispers süspansiyonlar olarak hazırlanır.
Genellikle elektrostatik olarak stabilize edilmiş sulu bir fazda süspanse edilirler.
Polidispers süspansiyonlar da sentezlenebilir ve partikül boyutunda kabaca aynı sınırlara sahiptir.
Daha küçük parçacıklar Kolloidal silikaların stabilize edilmesi zordur, 150 nanometreden çok daha büyük parçacıklar sedimantasyona maruz kalır.
Kolloidal silikalar çoğunlukla, bir alkali-silikat çözeltisinin kısmen nötralize edildiği ve silika çekirdeklerinin oluşumuna yol açtığı çok aşamalı bir işlemde hazırlanır.
Kolloidal silika parçacıklarının alt birimleri tipik olarak 1 ila 5 nm aralığındadır.
Bu alt birimlerin birleştirilip birleştirilmemesi polimerizasyon koşullarına bağlıdır.
Bir su bardağı (sodyum silikat) çözeltisinin ilk asitleştirilmesi Si(OH)4 verir.
PH 7'nin altına düşürülürse veya tuz eklenirse, birimler zincirler halinde birbirine kaynaşma eğilimindedir.
Kolloidal silikalar genellikle silika jeller olarak adlandırılır. PH, nötrün alkali tarafında hafifçe tutulursa, alt birimler ayrı kalır ve yavaş yavaş büyürler.
Kolloidal silikalar genellikle çökeltilmiş silika veya silika sollar olarak adlandırılır.
Kolloidal silika yüzeyindeki hidrojen iyonları sulu çözelti içinde ayrışma eğilimindedir ve yüksek bir negatif yük verir.
Bazı Si atomlarının Al ile ikame edilmesinin, özellikle nötr noktanın altındaki pH'ta değerlendirildiğinde, negatif kolloidal yükü arttırdığı bilinmektedir.
Çok küçük boyutu nedeniyle, kolloidal silikanın yüzey alanı çok yüksektir.
Kolloidal süspansiyon, pH ayarlaması ile stabilize edilir ve daha sonra genellikle buharlaştırma yoluyla konsantre edilir.
Elde edilebilecek maksimum konsantrasyon, partikül boyutuna bağlıdır.
Örneğin, 50 nm parçacıklar ağırlıkça% 50'den fazla katıya konsantre edilebilirken, 10 nm parçacıklar, süspansiyon çok kararsız hale gelmeden önce yalnızca ağırlıkça% 30 katıya konsantre edilebilir.
"Kolloidal" terimi, parçacıkların ince bir şekilde bölündüğünü ve sıvı boyunca eşit olarak dağıldığını, bunun da kararlı ve homojen bir karışım elde edildiğini gösterir.
Kolloidal silika durumunda, katı parçacıklar tipik olarak nanometre aralığındadır.
Kolloidal silika, partikül boyutu yaklaşık 15 nm olan submikroskobik füme bir silikadır.
Kolloidal silika, hafif, gevşek, mavimsi-beyaz renkli, kokusuz, tatsız, amorf bir tozdur.
Kolloidal silika, silikon tetraklorür gibi klorosilanların 18008°C'de bir hidrojen-oksijen alevi kullanılarak alev hidrolizi ile hazırlanır.
Üretim sırasında erimiş halden hızlı soğutma, ürünün amorf kalmasına neden olur.
Silikon dioksit, bir silikon atomunun iki oksijene kovalent olarak bağlandığı doğrusal triatomik moleküllerden oluşan bir silikon oksittir.
Füme silika, O2(N2)/H2 alevinde SiCl4'ün yüksek sıcaklıkta hidrolizi ile sentezlenebilir.
Kolloidal silika doğada amorftur ve çok yüksek özgül alana sahiptir.
Amorf silikanın mikro damlacıkları bir dala dönüşür ve aglomera gibi bir zincir oluşturur.
Kolloidal silikalar, bir dizi faktöre göre değişen çeşitli derecelerde üretilir.
Parçacık boyutu tipik olarak 5nm ila 40nm arasında değişir ve parçacık boyutu dağılımı, üretim sürecine bağlı olarak dardan genişe değişebilir.
Standart kolloidal silika, 8 - 10.5 arasındaki bir pH'ta stabildir ve sodyum veya amonyum ile stabilize edilmiş bir anyonik yüzey yükü taşır.
Belirli derecelerde, silika partikülündeki Kolloidal silikanın bir kısmı, genellikle 3.5 - 10.5 gibi daha geniş bir pH aralığında gelişmiş stabilite sağlamak için alüminat iyonları ile değiştirilir.
DKIC tarafından yapılan kolloidal silika, sulu ortamda süspanse edilmiş yoğun silika parçacıklarından oluşur.
Bu parçacıklar küreseldir ve boyut olarak tekdüzedir.
Kendilerine ait herhangi bir iç yapıları yoktur ve tamamen şekilsizdirler.
Kolloidal silikalar ayrık ve topaklanmamıştır.
Parçacık boyutu 7 ila 35 nanometre arasında değişen kolloidal silikadır.
Kolloidal silikanın bu kararlı sulu dispersiyonları, ağırlıkça %20 ila %50 arasında silika konsantrasyonlarında mevcuttur.
Kolloidal silika, asidik pH aralığında stabil olan pozitif bir yüzey yükü taşımak için de üretilebilir.
Bu, parçacığın yüzeyini alüminyum ile değiştirerek ve parçacığı bir klorür anyonu ile stabilize ederek şarj ederek gerçekleştirilir.
Kolloidal silikalar, dispersiyon ortamı olarak bilinen ikinci bir madde boyunca dağılmış mikroskobik parçacıkların veya moleküllerin kararlı bir süspansiyonu olarak tanımlanır.
Kolloidin süspansiyon boyunca eşit olarak dağılması ve ayrılmaması veya yerleşmemesi bakımından diğer süspansiyon türlerinden farklıdırlar.
Kolloidal silikalar, sıvı, katı ve gaz halindeki kolloidlerin ve dispersiyon ortamının herhangi bir kombinasyonu olabilir.
Kolloidal silikalar, çeşitli yaygın ürünlerde yaygındır ve çeşitli çevresel ve doğal koşullar tarafından da üretilir.
Kolloidal Silika süspansiyon, yüksek kaliteli ayna cilaları üretebilir.
Kolloidal silika, kısmen aşındırıcı, kısmen kimyasal parlatıcıdır, bu da onu alüminyum, stelit ve kobalt krom gibi malzemelerin parlatılması için çok uygun hale getirir.
Kolloidal silikalar, sis, sis ve saç spreyi gibi gaz halindeki bir dispersiyon ortamında süspanse edilmiş sıvı parçacıklardan yapılır.
Kolloidal silikalar, gaz halindeki bir dispersiyon ortamında süspanse edilmiş katılardır.
Yaygın Kolloidal silikalar arasında duman, toz ve hava kirliliği bulunur.
Sıvı köpükler, krem şanti, tıraş kremi ve saç şekillendirici köpük gibi sıvı bir dispersiyon ortamında asılı kalan gaz parçacıklarından kaynaklanır.
Emülsiyon, sıvı Kolloidal silikalar sıvı bir dispersiyon ortamında süspanse edildiğinde meydana gelir.
Sol, sıvı bir dispersiyon ortamında süspanse edilen Kolloidal silikaları ifade eder.
Pigmentli mürekkep, boya ve kan, solların yaygın örnekleridir.
Kolloidal silikalar, gaz parçacıkları katı bir dispersiyon ortamında süspanse edildiğinde oluşur.
Jeller, sıvı bir dispersiyon ortamında süspanse edilmiş Kolloidal silikalardan yapılır.
Jeller genellikle katı parçacıkların yapısını geliştirmek ve daha viskoz bir çözelti oluşturmak için işlenir.
Katı sol, metal alaşımları, renkli cam ve değerli taşlar gibi katı bir dispersiyon ortamında asılı duran katı parçacıkları ifade eder.
Kolloidal silika, sıvı içinde süspanse edilmiş silika moleküllerinden oluşur ve böylece sıvı bir sol oluşturur.
Kolloidal silika oluşturma işlemi, silika moleküllerinin daha küçük bileşen moleküllerine çökmeden veya kararsız silika jeller halinde toplanmadan sıvı ortam içinde stabil ve ayrı kalmasını sağlamak için yakından izlenir.
Sıvı dispersiyon ortamı sudan daha fazla yoğunluk sergiler ve gelişmiş iyonik stabilizasyon için elektrostatik olarak işlenmelidir.
Kolloidal silika', silikonun polimerik bir formudur.
Toksik olmayan, doğal olarak oluşan element Kolloidal silika, periyodik tabloda listelenmiştir ve endüstride yaygın olarak kullanılmaktadır.
Kolloidal silika, Dünya'nın kabuğunun büyük bir bölümünü oluşturduğu ve oksijenden sonra en yaygın ikinci element olduğu için doğada bol miktarda bulunur.
Kristalin Kolloidal silikaların su bazlı süspansiyonları, kolloidal silikon dioksit (SiO2) olarak bilinir.
Kolloidal silika nanopartikül yüzeyi daha sonra yüklenir ve partiküllerin itilmesini ve kararlı bir dispersiyon veya kolloid oluşturmasını sağlar.
Oluşan kararlı dispersiyona kolloidal Kolloidal silika denir ve farklı uygulamalara uygulanabilen benzersiz özelliklere sahiptir.
Kolloidal silikon dioksit, hafif, gevşek, mavimsi-beyaz renkli, tatsız ve amorf tozun fiziksel özelliklerine sahiptir.
Konvansiyonel kolloidal silikon dioksit, amonyum veya sodyum ile düzenlenen ve 8 ila 10.5 potansiyel hidrojen (pH) aralığında stabil olan negatif (anyonik) bir yüzey yükünden oluşur.
Kolloidal silika, suda dağılmış, tespit edilebilir kristallik veya gözeneklilik seviyeleri göstermeyen ayrık, amorf, küresel silika parçacıklarından oluşur.
5-40 nanometre aralığında çeşitli parçacık boyutlarında çeşitli dereceler mevcuttur.
Her bir LUDOX® kolloidal silika sınıfı, çok sıkı bir partikül boyutu dağılımına sahiptir ve pH, silika sol yükü ve stabilize edici mekanizmada farklılık gösterir.
Bu kristalleşmeyen Kolloidal Silika, kullanıcı dostu olacak şekilde yapılmıştır.
Kolloidal silika, kimyasal/mekanik parlatma için kullanılan diğer kolloidal silika ürünleriyle ilişkili kurutma veya donmadan kaynaklanan sorunları ortadan kaldırır
Kolloidal silika, silikon, erimiş kuvars, erimiş silika, lityum niobat, YAZ, GGG, alexandrite, safir ve diğerleri gibi parlatma sonuçlarını optimize etmek için ilk tercih edilen silika dispersiyonudur.
Kolloidal silika, diğer silika türlerinden birkaç önemli şekilde farklılık gösterir.
En göze çarpan fark, Kolloidal silikanın tozun aksine sıvı halde olmasıdır.
Ek olarak, Kolloidal silika en geniş yüzey alanına sahiptir ve agrega boyutu, birincil partikülün gerçek boyutu kadar küçük olabilir.
Kolloidal silika dispersiyonları akışkan, düşük viskoziteli dispersiyonlardır.
Kolloidal silikanın birçok derecesi vardır, ancak bunların tümü, boyutları yaklaşık 2 nm ila yaklaşık 150 nm arasında değişen silika parçacıklarından oluşur Kolloidal silikalar, küresel veya hafif düzensiz bir şekle sahip olabilir ve ayrı parçacıklar veya hafif yapılandırılmış agregalar olarak mevcut olabilir.
Kolloidal silikalar, oluşturuldukları işleme bağlı olarak dar veya geniş bir parçacık boyutu aralığında da bulunabilir.
Dispersiyondaki Kolloidal silikanın maksimum ağırlık oranı, ortalama partikül boyutuna bağlı olarak sınırlıdır.
Daha küçük ortalama çaplara sahip dispersiyonlar, daha büyük genel spesifik yüzey alanlarına sahiptir ve düşük konsantrasyonlu dispersiyonlarla sınırlıdır.
Tersine, daha büyük ortalama çaplara sahip dispersiyonlar, daha düşük genel spesifik yüzey alanlarına sahiptir ve daha konsantre dispersiyonlarda mevcuttur.
Kolloidal silika dispersiyonunun görünümü büyük ölçüde partikül boyutuna bağlıdır.
Küçük silika parçacıkları (< 10 nm) içeren dispersiyonlar normalde oldukça berraktır.
Orta büyüklükteki dispersiyonlar (10-20 nm) daha fazla ışık saçıldıkça yanardöner bir görünüm almaya başlar.
Büyük kolloidal silika parçacıkları (> 50 nm) içeren dispersiyonlar normalde beyazdır.
Standart kolloidal silika dispersiyonları, 8 - 10.5 pH aralığında jelleşmeye ve çökelmeye karşı stabildir.
Kolloidal silika, füme silika partikülünün yüzeyinin dimetil silil gruplarının eklenmesiyle değiştirildiği sentetik bir amorf silika türevidir.
Yüzey modifikasyonu, silikayı daha az ıslanabilir hale getiren dimetil silil gruplarının bağlanmasını içeren kontrollü bir kimyasal işlemle elde edilir.
Kolloidal silika, farmasötik ürünlerde yardımcı madde olarak kullanım için onaylanmıştır ve hafif, ince, beyaz veya neredeyse beyaz amorf kabarık bir toz olarak sağlanır.
Kolloidal silika, amorf silikon dioksit (diğer adıyla silika) nanopartiküllerinin su bazlı, stabilize edilmiş bir dispersiyonudur.
Üreticiler, silikat çözeltilerinden türetilen silika çekirdeklerinin polimerizasyonu yoluyla kolloidal silika üretir.
Alkali koşullar altında polimerize olan silika çekirdekleri, nano ölçekte ve yüksek yüzey alanına sahip silika sollere (katı parçacıklar) dönüşür.
İşlem daha sonra bu silika sollara bir yük uygulayarak her parçacık arasında elektrostatik dirence neden olur ve bir tür kararlı dispersiyon olan bir kolloid oluşturur.
Kolloidal silika, yüzeyde hidroksillenmiş bir sıvı içinde küresel silikon dioksit (SiO2) nanopartiküllerinin kararlı bir süspansiyonudur.
Kolloidal silika hemen hemen tüm endüstriyel sektörlerde bulunur.
Uygulamalar, kağıt endüstrisindeki yüzey işlemlerinden elektronik endüstrisinde parlatma maddesi olarak kullanıma ve hava ve aşınma direncini iyileştirmek için vernikler, kaplamalar ve boyalar için bir katkı maddesi olarak kullanıma kadar uzanmaktadır.
Kolloidal silika ayrıca kozmetikte ve gıda endüstrisinde yaygın bir katkı maddesidir.
Ortalama partikül boyutu ve dağılım genişliği, SiO2 partiküllerinin uygulama alanını tanımlar.
Kolloidal silika, yüzeyde hidroksillenmiş bir sıvı içinde küresel silikon dioksit (SiO2) nanopartiküllerinin kararlı bir süspansiyonudur.
Kolloidal silika asit hemen hemen tüm endüstriyel sektörlerde bulunur.
Kolloidal silika, bir silikon bileşiğinin buhar fazı hidrolizi ile sentetik olarak hazırlanan amorf silikadır (silikon oksit).
Kolloidal silika, SiO2 kimyasal formülüne sahiptir, ancak silika jel veya çökeltilmiş silika gibi doğal olarak veya başka bir şekilde bulunan amorf veya kristal silika gibi diğer silika türlerinden farklıdır.
Kolloidal silika, beyaz veya neredeyse beyaz, hafif, kabarık ve son derece ince bir toz olarak sağlanır.
Kolloidal silika, hassas döküm için seramik kabukların üretiminde yaygın olarak bağlayıcı olarak kullanılır.
Kolloidal silika, metal nesnelerin dökümü için karmaşık ve ayrıntılı kalıplar oluşturmaya yardımcı olur.
Kağıt ve tekstil endüstrilerinde, Kolloidal silika bazen basılabilirliği, pürüzsüzlüğü ve aşınma direncini artırmak için bir kaplama veya terbiye maddesi olarak kullanılır.
Kolloidal silika, mukavemetlerini, esnekliklerini ve yapışma özelliklerini geliştirmek için yapıştırıcılara ve sızdırmazlık maddelerine dahil edilebilir.
Kolloidal silika, gözlükler, kamera lensleri ve diğer optik cihazlar gibi optik uygulamalar için yansıma önleyici kaplamaların üretiminde kullanılır.
Bazı su arıtma işlemlerinde, kolloidal silika, topaklaştırmak ve sudaki safsızlıkları gidermek için kullanılabilir.
Kolloidal silika, diş macunu ve cilt kremleri gibi bazı kişisel bakım ürünlerinde koyulaştırıcı veya aşındırıcı madde olarak kullanılır.
Kolloidal silika, bira ve şarap üretiminde berraklaştırıcı bir ajan olarak kullanılabilir ve pus üreten parçacıkların uzaklaştırılmasına yardımcı olur.
Petrol ve gaz endüstrisinde, kolloidal silika bazen kuyu deliği stabilitesini artırmak için sondaj sıvılarında ve çimentolama işlemlerinde kullanılır.
Kolloidal silika, elektronik endüstrisinde yarı iletken üretimi sırasında düzlemselleştirme gibi uygulamalar için kullanılır.
Erime noktası: >1600°C
Yoğunluk: 25 ° C'de 2,3 lb / cu.ft (yığın yoğunluğu) (lit.)
kırılma indisi: n20 / D 1.46 (lit.)
çözünürlük: Hidroflorik asit hariç organik çözücülerde, suda ve asitlerde pratik olarak çözünmez; sıcak alkali hidroksit çözeltilerinde çözünür. Su ile kolloidal bir dağılım oluşturur. Aerosil için suda çözünürlük: 258 ° C'de 150 mg / L (pH 7).
Form: Toz
Özgül Ağırlık: 2.2
Yüksek teknoloji uygulamaları için silikanın saflaştırılması, konsantre uçucu asitlerden izopiestik buhar damıtma kullanır ve yüksek saflıkta suda emilir.
Kirlilikler geride kalır. Yüzey kirleticilerini gidermek için yapılan ön temizlik, HF veya HCl, H2O2 ve deiyonize su karışımında daldırma aşındırma kullanır.
Kolloidal silika, amorf yanmaz bir katıdır.
Genellikle kimyasal olarak reaktif değildir.
Flor, oksijen diflorür, klor triflorür ile uyumsuzdur.
Erimiş alkalilerde çözünür ve yüksek sıcaklıkta çoğu metalik oksitle reaksiyona girer.
Normal bir aşındırıcı bulamaçta ağırlıkça% 15-20 konsantrasyonda aşındırıcı parçacıklar beklenebilir, ancak kolloidal bir bulamaçta ağırlıkça% 50 kadar silika parçacıkları bulunabilir.
Bu, bir alt tabaka üzerinde çalışan Kolloidal silikaların miktarını büyük ölçüde artırır ve cilalamayı çok düzgün ve verimli hale getirir.
Ayrıca, Kolloidal silikalar inanılmaz derecede homojen bir şekilde küreseldir, bu da şeklin çok daha az homojen olduğu standart aşındırıcı parçacıklarla eşleşmesi zordur.
Kolloidal silika, endüstride yaygın olarak kullanılan bir malzemedir.
Kolloidal Silika, epoksinin viskozitesini kontrol etmek için kullanılan bir epoksi koyulaştırıcı katkı maddesidir.
Kolloidal silika, dikey ve havai derzlerde epoksi akışını önler. Bu çok güçlü bir dolgu maddesidir.
Kolloidal silika, genel epoksi yapıştırma ve fileto oluşturma için ideal olan pürüzsüz bir karışım oluşturur.
Kolloidal silika aynı zamanda en çok yönlü epoksi dolgu maddemizdir.
Genellikle diğer dolgu maddeleri ile birlikte kullanılan 406, epoksi kaplama bileşiklerinin mukavemetini, aşınma direncini ve kıvamını iyileştirmek için kullanılabilir.
Sonuç, daha sert, daha pürüzsüz bir yüzeydir.
Kolloidal Silika, günümüzde hassas hassas döküm endüstrisinde kullanılan en popüler bağlayıcıdır.
Kolloidal silika, yatırım tekerine, birincil veya yedek bulamaç olarak iyi performans gösteren güvenli, ekonomik, kullanımı kolay bir bulamaç bileşeni sunar.
Kolloidal Silika sistemleri çok kararlıdır; Bağlayıcının kimyasal inertliği nedeniyle çok çeşitli refrakter malzemelerle uzun ömürlü bir seramik bulamaç oluşturabilir.
Kolloidal silika üretmek için sol-jel, hidrotermal ve kimyasal buhar biriktirme (CVD) yöntemleri kullanılmıştır.
Sol-jel işlemi, ortam sıcaklığı altında reaksiyon değişkenlerinin metodik olarak izlenmesiyle fiziksel görünümü düzenleme kapasitesi nedeniyle saf Kolloidal silikalar yapmak için yaygın olarak kullanılmaktadır.
İyon değiştirme prosedürü, sol-jel yöntemiyle sodyum silikat kullanılarak Kolloidal silika üretmek için kullanılan tekniğin bir parçasıdır.
Bu teknikle, kolloidal silikon dioksitin partikül boyutu ve dağılımı kolayca kontrol edilebilir.
Teknik ayrıca cKolloidal silika parçacıkları için gelişmiş elektrik yükü ve yüksek zeta sağlar.
Bu, çözeltiyi daha kararlı hale getirir, agregasyonu iter ve parçacıklar arasında aglomerasyonu önler.
Bu kolloidal silika parçacıkları, alüminyumun silika parçacıklarının yüzey tabakasına dahil edilmesiyle alüminosilikat bölgeleri oluşturulduğunda ek anyonik yük stabilitesi elde edebilir.
Kolloidal silikanın düşük pH'lı versiyonları, katyonik alüminyum oksidin partiküllerin yüzeyine adsorpsiyonu ile de mevcuttur.
Bu, anyonik türlerle stabilize edilmiş katyonik bir parçacıkla sonuçlanır - genellikle bu klorürdür.
Bu dispersiyonlar, pH 4'ün altında stabildir.
Dispersiyonun tamamen deiyonize edilmesiyle düşük pH dereceleri de elde edilebilir.
Bu dereceler, stabilize edici iyonların varlığını gerektirmez ve ayrıca pH'ın 3'ün altında stabildir.
Kolloidal silikalar, bunlarla sınırlı olmamak üzere, pH, stabilizasyon iyonları, yüzey yükü ve yüzey modifikasyonu ayarlamaları dahil ancak bunlarla sınırlı olmamak üzere çeşitli konfigürasyonlara modifiye edilebilir.
Kolloidal silika, sıvı içinde süspanse edilmiş silika moleküllerinden oluşur ve böylece sıvı bir sol oluşturur.
Kolloidal silika oluşturma işlemi, silika moleküllerinin daha küçük bileşen moleküllerine çökmeden veya kararsız silika jeller halinde toplanmadan sıvı ortam içinde stabil ve ayrı kalmasını sağlamak için yakından izlenir.
Sıvı dispersiyon ortamı sudan daha fazla yoğunluk sergiler ve gelişmiş iyonik stabilizasyon için elektrostatik olarak işlenmelidir.
Kolloidal silika, düşük viskoziteli oldukça akışkandır.
Kolloidal silika kullanımları, çözeltideki silika parçacıklarının boyutuna ve değiştirilebilir pH, iyonizasyon ve yüzey yüküne bağlı olarak değişir.
Kolloidal silika, akışkanlığı kontrol etmek için kişisel bakım ürünlerinde reolojik bir katkı maddesi olarak yaygın olarak kullanılmaktadır.
En genel anlamda kolloidal silika, amorf silikon dioksit (silika) parçacıklarının suda dağılmasıdır.
Bu amorf silika parçacıkları, yüksek yüzey alanına sahip nanometre boyutlu silika soller oluşturmak için alkali koşullar altında silikat çözeltilerinden silika çekirdeklerinin polimerize edilmesiyle üretilir.
Daha sonra silika nanopartikül yüzeyinde, silika partiküllerinin birbirini itmesine ve kararlı bir dispersiyon veya kolloid oluşturmasına izin veren bir yük indüklenir.
Kolloidal silika, yüzeyde hidroksillenmiş bir sıvı içinde küresel silikon dioksit (SiO2) nanopartiküllerinin kararlı bir süspansiyonudur.
Kolloidal silika hemen hemen tüm endüstriyel sektörlerde bulunur.
Uygulamalar, kağıt endüstrisindeki yüzey işlemlerinden elektronik endüstrisinde parlatma maddesi olarak kullanıma ve hava ve aşınma direncini iyileştirmek için vernikler, kaplamalar ve boyalar için bir katkı maddesi olarak kullanıma kadar uzanmaktadır.
Kolloidal silika ayrıca kozmetikte ve gıda endüstrisinde yaygın bir katkı maddesidir.
Ortalama partikül boyutu ve dağılım genişliği, SiO2 partiküllerinin uygulama alanını tanımlar.
Tipik boyutlar 1 nm ila 100 nm arasında değişir.
Kolloidal silikalar tipik olarak çapı 30 – 500 nm aralığında sulu süspansiyonlardır.
Kolloidal silikalar genellikle elektrostatik olarak stabilize edilir ve 2.1 ila 2.3 g/cm3 aralığında yoğunluklara sahiptir.
Kolloidal silikalar için uygulamalar arasında dolgu maddeleri, bağlayıcılar, aşındırıcılar, katalizörler ve emiciler bulunur.
Kolloidal silikanın çoğu boyut ölçümü, SZ-100 Nanopartikül Analizörü gibi dinamik ışık saçılımı (DLS) cihazları kullanılarak gerçekleştirilir.
Kolloidal silika, kataliz, farmasötikler ve kaplamalar dahil olmak üzere birçok uygulamada kullanılır.
Doğal olarak oluşan silika malzemeler yaygın olarak bulunmasına rağmen, genellikle işlenmesi zor ve hatta sağlığa zararlı formlardadır.
Bu nedenle, tek tip kolloidal silikalar genellikle sentetik kimyasal işlemler kullanılarak üretilir.
Yerleşik yüksek sıcaklıkta gaz sentezi yöntemleri, enerji bilincine sahip toplumumuzda gözden düşerken, sıvı sentez yöntemleri mevcut endüstriyel liderlerdir.
Çökeltilmiş Kolloidal silika yöntemi, gelecekte büyümeye devam edeceği tahmin edilen ekonomik avantajları ile ticari olarak üretilen özel silikaların çoğunluk payını sağlamaktadır.
Kolloidal silika ürünleri, topaklanmamış, amorf, nanometre boyutunda ve küresel silika parçacıklarının kararlı dispersiyonlarıdır.
İyi stabilite, ayarlanabilir partikül boyutu dağılımı ve mekanik özellikler, kolloidal silikayı birçok CMP uygulaması için tercih edilen bir aşındırıcı haline getirmiştir.
Son zamanlarda, araştırma ve analitik çabalar, CMP endüstri segmentinde yeni fırsatlar yaratmak için ayarlanabilir fiziksel ve kimyasal özelliklere sahip kolloidal ürünlerin geliştirilmesine odaklanmıştır.
Kolloidal silikalar çoğunlukla, bir alkali-silikat çözeltisinin kısmen nötralize edildiği ve silika çekirdeklerinin oluşumuna yol açtığı çok aşamalı bir işlemde hazırlanır.
Kolloidal silika parçacıklarının alt birimleri tipik olarak 1 ila 5 nm aralığındadır.
Bu alt birimlerin bir araya getirilip getirilmemesi polimerizasyon koşullarına bağlıdır.
Bir su bardağı (sodyum silikat) çözeltisinin ilk asitleştirilmesi Si(OH)4 verir.
PH 7'nin altına düşürülürse veya tuz eklenirse, birimler zincirler halinde birbirine kaynaşma eğilimindedir.
Kolloidal silikalar genellikle silika jeller olarak adlandırılır.
PH, nötrün alkali tarafında hafifçe tutulursa, alt birimler ayrı kalır ve yavaş yavaş büyürler.
Kolloidal silikalar genellikle çökeltilmiş silika veya silika sollar olarak adlandırılır.
Kolloidal silika yüzeyindeki hidrojen iyonları sulu çözelti içinde ayrışma eğilimindedir ve yüksek bir negatif yük verir.
Bazı Si atomlarının Al ile ikame edilmesinin, özellikle nötr noktanın altındaki pH'ta değerlendirildiğinde, negatif kolloidal yükü arttırdığı bilinmektedir.
Çok küçük boyutu nedeniyle, kolloidal silikanın yüzey alanı çok yüksektir.
Kolloidal silika, pH ayarlaması ile stabilize edilir ve daha sonra genellikle buharlaştırma yoluyla konsantre edilir.
Elde edilebilecek maksimum konsantrasyon, partikül boyutuna bağlıdır.
Örneğin, 50 nm parçacıklar ağırlıkça% 50'den fazla katıya konsantre edilebilirken, 10 nm parçacıklar, süspansiyon çok kararsız hale gelmeden önce yalnızca ağırlıkça% 30 katıya konsantre edilebilir.
Kullanımlar:
Kolloidal silika, ilginç kalınlaşma ve tiksotropik özelliklere ve muazzam bir dış yüzey alanına sahiptir.
Kolloidal silika, bir hidrojen ve oksijen alevi içinde klorosilanlar veya silikon tetraklorür gibi ikame edilmiş silanlar kullanılarak bir buhar fazı hidroliz işlemiyle üretilir.
Bu malzeme kuru halde oluşturulur ve toplanır.
Kolloidal silika, saptanabilir kristal silika içermez.
Kolloidal silika, ilaç, kozmetik ve gıda ürünlerinde yaygın olarak kullanılmaktadır.
Kolloidal silika, küçük partikül boyutudur ve geniş spesifik yüzey alanı, tabletleme ve kapsül doldurma gibi bir dizi işlemde kuru tozların akış özelliklerini iyileştirmek için kullanılan arzu edilen akış özelliklerini verir.
Kolloidal silika ayrıca emülsiyonları stabilize etmek için ve jellerde ve yarı katı preparatlarda tiksotropik bir koyulaştırıcı ve süspanse edici ajan olarak kullanılır.
Benzer kırılma indisine sahip diğer bileşenlerle şeffaf jeller oluşturulabilir.
Viskozite artışının derecesi, sıvının polaritesine bağlıdır (polar sıvılar genellikle polar olmayan sıvılardan daha yüksek konsantrasyonda kolloidal silikon dioksit gerektirir).
Viskozite büyük ölçüde sıcaklıktan bağımsızdır.
Bununla birlikte, bir sistemin pH'ındaki değişiklikler viskoziteyi etkileyebilir.
Aerosollerde, inhalasyon için olanlar dışında, Kolloidal silika, partikül süspansiyonunu teşvik etmek, sert çökelmeyi ortadan kaldırmak ve püskürtme memelerinin tıkanmasını en aza indirmek için kullanılır.
Kolloidal silika ayrıca bir tablet parçalayıcı olarak ve tozlardaki sıvılar için bir adsorban dispersiyon ajanı olarak kullanılır.
Kolloidal silika, viskoziteyi arttırmak, kalıplama sırasında çökelmeyi önlemek ve salım oranını azaltmak için lipofilik eksipiyanlar içeren fitil formülasyonlarına sıklıkla eklenir.
Kolloidal silika ayrıca balmumu mikrokürelerinin hazırlanması sırasında bir adsorban olarak kullanılır; topikal preparatlar için koyulaştırıcı bir ajan olarak; ve nanokapsüllerin ve nanosfer süspansiyonlarının dondurularak kurutulmasına yardımcı olmak için kullanılmıştır.
Kağıt yapımında drenaj yardımcısı olarak kolloidal silika kullanılır.
Kağıdın kuru mukavemetini arttırmak için boyutlandırma maddesi olarak kolloidal silika nişastası eklenir.
Kolloidal silika her zaman bugün olduğu gibi çok yönlü problem çözücü olmamıştır.
Aslında, erken kolloidal silikalar ticari olarak yararlı değildi çünkü çok kararsızdılar ve sadece düşük seviyelerde silika içeriyorlardı.
Kolloidal silika, 1940'ların sonlarında Kolloidal silika üretimine kadar kolloidal silika uygulamalarının genişlemeye başladığı değildi.
Kolloidal silika için en eski uygulamalardan biri, zeminler için kaymaz kaplamalardı.
Kolloidal silika, metalografik numune analizi için çok yaygın bir son parlatma aşamasıdır.
Bunun nedeni, Kolloidal silikanın genellikle hasarsız bir numune vermesinin garanti edilmesidir.
Bu tür numuneler yüksek büyütme altında görüntülenir, bu nedenle bir malzemenin yapılarına bakarken, hazırlama işlemlerinden kaynaklanan hasarın, malzemenin kendisiyle karıştırılmaması önemlidir.
Modern malzeme analiz yazılımı için çiziksiz bir yüzey çok önemlidir.
Bir numunedeki çizikler veya başka herhangi bir hasar, yanlış okumalar vererek yazılımın kafasını karıştırabilir.
Bu, özellikle sertlik test yazılımı için önemlidir.
Bazı metalografik numuneler için, kolloidal silikanın kimyasal yapısı, tane sınırlarını ve diğer yapıları ortaya çıkaran yüzeyi aşındırmak için kullanılabilir.
Kolloidal silika her zaman bugün olduğu gibi çok yönlü problem çözücü olmamıştır.
Aslında, erken kolloidal silikalar ticari olarak yararlı değildi çünkü çok kararsızdılar ve sadece düşük seviyelerde silika içeriyorlardı.
kolloidal silika, 1940'ların sonlarında LUDOX üretimine kadar kolloidal silika uygulamalarının genişlemeye başladığı değildi.
Kolloidal silika için en eski uygulamalardan biri, zeminler için kaymaz kaplamalardı.
Aşağıdaki 1950'lerin Dupont reklamı, kolloidal silikanın zemin cilasında nasıl kullanıldığını açıklamaktadır.
Kolloidal silika, mükemmel yapışma özelliklerine sahip şeffaf bir tabaka oluşturma kabiliyetinden dolayı kaplama ve film üretiminde kullanılır.
Kolloidal silika, çeşitli kimyasal işlemlerde katalizörler için bir destek malzemesi olarak hizmet edebilir.
Kolloidal silika, yarı iletken ve optik endüstrilerinde yüzeylerin parlatılması ve düzlemselleştirilmesi için kullanılır.
Refrakter malzemelerin imalatında, kolloidal silika, nihai ürünün mukavemetini ve performansını artırmak için bir bağlayıcı görevi görebilir.
Kolloidal silika bazen betona mukavemetini ve dayanıklılığını arttırmak için eklenir.
Kolloidal silika, kompozitler ve ölçü malzemeleri dahil olmak üzere bazı diş malzemelerinde kullanılır.
Farmasötiklerde, kolloidal silika, ilaç dağıtım sistemleri için bir taşıyıcı olarak kullanılabilir.
Kolloidal silika, düşük viskoziteli oldukça akışkandır.
Kolloidal silika kullanımları, çözeltideki silika parçacıklarının boyutuna ve değiştirilebilir pH, iyonizasyon ve yüzey yüküne bağlı olarak değişir.
Son parlatma için kullanılan kolloidal silika süspansiyonları, kimyasal olarak agresif bir sıvı taşıyıcı boyunca dağılmış aşındırıcı parçacıkların karışımlarıdır.
Bu kombinasyon, deformasyonsuz yüzeylerle sonuçlanan kimyasal-mekanik bir parlatma işlemi sağlar.
Bu süspansiyonların değiştirilmiş pH'ı, bazı numune türleri için tane sınırlarının ve diğer mikroyapısal özelliklerin tanımlanmasını sağlayabilir.
Kolloidal silika, yüzeylerde ince, şeffaf kaplamalar ve filmler oluşturmak için kullanılır ve gelişmiş yapışma, sertlik ve dayanıklılık sağlar.
Kolloidal silika, kimyasal işlemlerde katalizörler için bir destek malzemesi görevi görerek stabilitelerini ve verimliliklerini artırır.
Yarı iletken üretimi ve optik gibi endüstrilerde, kolloidal silika, yüksek hassasiyetle pürüzsüz yüzeyler elde etmek için parlatma ve düzlemselleştirme için kullanılır.
Kolloidal silika, refrakter malzemelerin üretiminde bağlayıcı görevi görerek mukavemetlerini ve yüksek sıcaklıklara karşı dirençlerini artırır.
Kolloidal silika, mukavemetini, dayanıklılığını ve kimyasal saldırılara karşı direncini artırmak için betona eklenebilir.
Kolloidal silika, hassas döküm için seramik kabuk kalıplarında bağlayıcı olarak kullanılır ve karmaşık ve detaylı metal dökümlerin üretilmesini sağlar.
Kolloidal silika, yapışkan özelliklerini, esnekliklerini ve genel performanslarını iyileştirmek için yapıştırıcılara ve sızdırmazlık maddelerine dahil edilir.
Optik cihazların üretiminde, yansıma önleyici kaplamalar oluşturmak, parlamayı azaltmak ve optik performansı artırmak için kolloidal silika kullanılır.
Kolloidal silika, safsızlıkları topaklaştırarak ve uzaklaştırılmalarını kolaylaştırarak su arıtma işlemlerine yardımcı olabilir.
Kolloidal silika, bazı diş kompozitlerinde ve ölçü malzemelerinde özelliklerini geliştirmek için kullanılır.
Kolloidal silika, tekstil ve kağıt endüstrilerinde basılabilirliği, pürüzsüzlüğü ve aşınma direncini artıran kaplamalar için kullanılır.
Diş macunu ve cilt kremleri gibi bazı kişisel bakım ürünlerinde bulunur, koyulaştırıcı veya aşındırıcı bir madde görevi görür.
Kolloidal silika, bira ve şarap gibi içeceklerin üretiminde pus üreten partikülleri gidermek için berraklaştırıcı bir ajan olarak kullanılır.
Sondaj sıvılarında ve çimentolama işlemlerinde, kuyu deliği stabilitesini artırmak için kolloidal silika kullanılır.
Elektronik endüstrisinde yarı iletkenlerin üretimi sırasında düzlemselleştirme işlemleri için kullanılır.
Kolloidal silika kullanan uygulamalar çok çeşitlidir.
Kolloidal silika, çeşitli işlemler içinde maddelerin hareketini arttırmak veya yönlendirmek için kullanılabilir.
Örneğin, kolloidal silika, kağıt üretim sürecinde bitmiş kağıttan sıvıyı hızlı bir şekilde çekmek için kullanılır, böylece kağıdın güçlendirici nişastasını korurken daha hızlı kurumasını sağlar.
Benzer şekilde, kolloidal silika, nem seviyelerinin yüksek olduğu endüstriyel ortamlarda nemi emmek için kullanılabilir.
Kurucu parçacıklarının boyutuna bağlı olarak, malzemelerin hareketini arttırmak veya yüzey sürtünmesini arttırmak için kolloidal silikadır.
Kolloidal silika, kataliz, farmasötikler ve kaplamalar dahil olmak üzere birçok uygulamada kullanılır.
Doğal olarak oluşan silika malzemeler yaygın olarak bulunmasına rağmen, genellikle işlenmesi zor ve hatta sağlığa zararlı formlardadır.
Bu nedenle, tek tip kolloidal silikalar genellikle sentetik kimyasal işlemler kullanılarak üretilir.
Yerleşik yüksek sıcaklıkta gaz sentezi yöntemleri, enerji bilincine sahip toplumda gözden düşerken, sıvı sentez yöntemleri mevcut endüstriyel liderlerdir.
Kolloidal silika, çeşitli işlemler içinde maddelerin hareketini arttırmak veya yönlendirmek için kullanılabilir.
Örneğin, Kolloidal silika, kağıt üretim sürecinde bitmiş kağıttan hızlı bir şekilde sıvı çekmek için kullanılır, böylece kağıdın güçlendirici nişastasını korurken daha hızlı kurumasını sağlar.
Benzer şekilde, kolloidal silika, nem seviyelerinin yüksek olduğu endüstriyel ortamlarda nemi emmek için kullanılabilir.
Kolloidal silika dioksit ayrıca emülsiyonları stabilize etmek için ve jellerde ve yarı katı preparatlarda tiksotropik bir koyulaştırıcı ve süspanse edici ajan olarak kullanılır.
Benzer kırılma indisine sahip diğer bileşenlerle şeffaf jeller oluşturulabilir.
Viskozite artışının derecesi, sıvının polaritesine bağlıdır (polar sıvılar genellikle polar olmayan sıvılardan daha yüksek konsantrasyonda Kolloidal silika dioksit gerektirir).
Viskozite büyük ölçüde sıcaklıktan bağımsızdır.
Bununla birlikte, bir sistemin pH'ındaki değişiklikler viskoziteyi etkileyebilir.
Aerosollerde, inhalasyon için olanlar dışında, Kolloidal silika dioksit, partikül süspansiyonunu teşvik etmek, sert çökelmeyi ortadan kaldırmak ve püskürtme memelerinin tıkanmasını en aza indirmek için kullanılır.
Kolloidal silika ayrıca bir tablet parçalayıcı olarak ve tozlardaki sıvılar için bir adsorban dispersiyon ajanı olarak kullanılır.
Kolloidal silika, viskoziteyi arttırmak, kalıplama sırasında çökelmeyi önlemek ve salım hızını azaltmak için lipofilik eksipiyanlar içeren fitil formülasyonlarına sıklıkla eklenir.
kolloidal silika ayrıca balmumu mikrokürelerinin hazırlanması sırasında bir adsorban olarak kullanılır; topikal preparatlar için koyulaştırıcı bir ajan olarak; ve nanokapsüllerin ve nanosfer süspansiyonlarının dondurularak kurutulmasına yardımcı olmak için kullanılmıştır.
Kurucu parçacıklarının boyutuna bağlı olarak, malzemelerin hareketini arttırmak veya yüzey sürtünmesini arttırmak için kolloidal silikadır.
Kolloidal silika, hem partikül boyutu hem de zeta potansiyeli için bir referans malzeme olarak da kullanılabilir.
Kolloidal silika, akustik spektroskopi, lazer kırınımı ve dinamik ışık saçılımı dahil olmak üzere çeşitli partikül boyutu analiz teknikleri kullanılarak incelenmiş, iyi bilinen ve karakterize edilen kolloidal bir malzemedir.
Kolloidal silika genellikle, kolloidal silikayı tutmak için pedin yapısında boşluklara sahip bir poliüretan parlatma pedi ile birlikte kullanılır.
Kolloidal silika, peristaltik bir pompa ve geleneksel bir aşındırıcı alıştırma işlemine benzer sabit bir damla besleme kullanılarak uygulanır.
Kolloidal silika, işlemin ıslaklığını korumak için önemlidir, böylece malzemeden sürüklenme olmaz.
Kolloidal silika dioksit, farmasötik, kozmetik ve gıda ürünlerinde yaygın olarak kullanılmaktadır.
Kolloidal silikalar, küçük partikül boyutu ve geniş spesifik yüzey alanı, tabletleme ve kapsül doldurma gibi bir dizi işlemde kuru tozların akış özelliklerini iyileştirmek için kullanılan arzu edilen akış özelliklerini verir.
Kolloidal silika, ilaç dağıtım sistemlerinde bir taşıyıcı olarak kullanılabilir, bu da farmasötiklerin kontrollü salınımına ve gelişmiş biyoyararlanımına izin verir.
Kolloidal silika, metal parlatma ve cam taşlama gibi uygulamalar için aşındırıcı macunların ve cilaların formülasyonunda kullanılır.
Kolloidal silika bazen yanmaz malzemelerin üretiminde kullanılır ve kaplamaların ve yapıların ısıl direncine katkıda bulunur.
Pillerin üretiminde, elektrot malzemelerini geliştirmek ve pil performansını iyileştirmek için kolloidal silika kullanılabilir.
Kolloidal silika nanopartikülleri, benzersiz yüzey özelliklerinden dolayı su arıtma ve hava arıtma gibi fotokatalitik işlemlerde kullanılabilir.
Kolloidal silika, bazı çevresel iyileştirme işlemlerinde kullanılır ve kirleticilerin topraktan ve sudan uzaklaştırılmasına yardımcı olur.
Kolloidal silika, tarımda toprak yapısını ve su tutmayı iyileştirmek ve daha iyi bitki büyümesini teşvik etmek için kullanılabilir.
Gelişmekte olan basılı elektronik alanında, iletken mürekkeplerin ve kaplamaların formülasyonunda kolloidal silikadan yararlanılmaktadır.
Kolloidal silika nanopartikülleri, görüntüleme, ilaç dağıtımı ve terapötikler dahil olmak üzere potansiyel biyomedikal uygulamalar için araştırılmaktadır.
Pillere ek olarak, enerji depolama sistemlerinde kullanılmak üzere kolloidal silika keşfedilebilir ve yenilenebilir enerji teknolojilerindeki gelişmelere katkıda bulunabilir.
Kolloidal silika, askıda katı maddeleri ve kirleticileri uzaklaştırmak için atık su arıtma işlemlerinde kullanılabilir.
Kolloidal silika, yapışmalarını, dayanıklılıklarını ve çevresel faktörlere karşı dirençlerini geliştirmek için belirli boya ve kaplama formülasyonlarında kullanılır.
Kolloidal silika nanopartikülleri, petrol ve gaz endüstrisindeki gelişmiş petrol geri kazanım süreçlerindeki potansiyelleri açısından incelenmiştir.
Güneş pillerinin üretiminde, yansıma önleyici kaplamalar oluşturmak ve ışık emiliminin verimliliğini artırmak için kolloidal silika.
Bazı kozmetik ürünlerde bulunan kolloidal silika, fondötenler ve tozlar gibi formülasyonlara katkıda bulunabilir.
Güvenlik profili:
İntraperitoneal, intravenöz ve intratrakeal yollarla zehirlenme yapar.
Yutulduğunda orta derecede toksiktir.
Kristalden çok daha az toksiktir.
Deneysel kanserojen verilerle şüpheli kanserojendir.
Mutasyon verileri bildirildi.
Kolloidal silika, oral ve topikal farmasötik ürünlerde yaygın olarak kullanılmaktadır ve genellikle esasen toksik olmayan ve tahriş edici olmayan bir yardımcı madde olarak kabul edilir.
Bununla birlikte, intraperitoneal ve subkutan enjeksiyon, lokal doku reaksiyonlarına ve / veya granülomlara neden olabilir.
Kolloidal silika bu nedenle parenteral olarak uygulanmamalıdır.
Depolama Şartları:
Kolloidal silika higroskopiktir ancak sıvılaşmadan büyük miktarlarda suyu adsorbe eder.
Sulu sistemlerde pH 0-7.5'te kullanıldığında, kolloidal silika, bir sistemin viskozitesini arttırmada etkilidir.
Bununla birlikte, 7.5'ten daha büyük bir pH'ta, kolloidal silikanın viskozite arttırıcı özellikleri azalır; ve 10.7'den büyük bir pH'da, silikon dioksit silikatlar oluşturmak üzere çözündüğü için bu yetenek tamamen kaybolur.
Kolloidal silika tozu iyi kapatılmış bir kapta saklanmalıdır.
